消息称三星计划量产的 1c DRAM 使用 MOR 光刻胶

发布日期：2024-04-30

根据韩媒TheElec报道，三星正在考虑在其下一代DRAM极紫外（EUV）光刻工艺中应用金属氧化物抗蚀剂（MOR）。MOR被业内认为是下一代光刻胶（PR），会接棒目前先进芯片光刻中的化学放大胶（CAR）。CAR在PR分辨率、抗蚀刻性和线边缘粗糙度方面已经无法完全满足未来光刻的需求。三星正考虑在第6代10纳米DRAM（1cDRAM）中使用MOR，主要在六层或七层上使用EUVPR，相关产品将于今年下半年投入生产。消息称三星正计划向多家供应商采购EUVMOR光刻胶材料，除了Inpria之外杜邦、东进半导体、三星SDI等都在测试开发。

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